| Characterization of advanced EUV resists using the Berkeley METtool | |
| Naulleau, Patrick | |
| Lawrence Berkeley National Laboratory | |
| 关键词: Extreme Ultraviolet Radiation; Masking; Testing; 36; Integrated Circuits; | |
| DOI : 10.2172/901529 RP-ID : LBNL--62124 RP-ID : DE-AC02-05CH11231 RP-ID : 901529 |
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| 美国|英语 | |
| 来源: UNT Digital Library | |
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