期刊论文

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Active and Passive Electronic Components
Some Investigations on the Anisotropy of the Chemical Etching of (hk0) and (hhl) Silicon Plates in a NaOH 35% Solution. Part I: 2D Etching Shapes

C. A. Hodebourg¹ C. R. Tellier²
[1] Laboratoire de Chronométrie Electronique et Piezoélectricité, Ecole Nationale Supérieure de Mécanique et des Microtechniques, 26 chemin de l'Epitaphe, Besançon cédex 25030, France;lnstitut des Microtechniques de Franche-Comté, Avenue de l'Observatoire, Besançon cédex 25030, France;
关键词: Anisotropic etching; Silicon; NaOH etchant.;
DOI : 10.1155/2001/80453
来源: DOAJ


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