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Antiferromagnetism and p‐type conductivity of nonstoichiometric nickel oxide thin films

Judith L. MacManus‐Driscoll¹ Armin Barthel¹ Mari Napari¹ Tuhin Maity¹ Tahmida N. Huq¹ Juliet E. Thompson¹ Robert L. Z. Hoye¹ Sami Kinnunen² Kai Arstila² Timo Sajavaara² Daisy Gomersall³ Kham M. Niang³ Andrew J. Flewitt³
[1] Department of Materials Science and Metallurgy University of Cambridge Cambridge UK;Department of Physics University of Jyväskylä Jyväskylä Finland;Electrical Engineering Division, Department of Engineering University of Cambridge Cambridge UK;
关键词: atomic layer deposition; chemical vapor deposition; nickel oxide; solution deposition; thin films;
DOI : 10.1002/inf2.12076
来源: DOAJ


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