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Optica Applicata
Properties of AlNx thin films prepared by DC reactive magnetron sputtering
Donata Muszynska1  Andrzej Stafiniak1  Bogdan Paszkiewicz1  Sergiusz Patela1  Marek Tlaczala1  Konrad Ptasinski1  Regina Paszkiewicz1  Adam Szyszka1 
关键词: aluminum nitride (AlN);    thin films;    reactive magnetron sputtering;    alternative dielectrics;   
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学科分类：光谱学
来源: Politechnika Wroclawska * Oficyna Wydawnicza / Wroclaw University of Technology
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