| IUCrJ | |
| Full elastic strain and stress tensor measurements from individual dislocation cells in copper through-Si vias | |
| Xu, R.1 Levine, L.E.1 Okoro, C.1 | |
| 关键词: FULL ELASTIC STRAIN; STRESS TENSOR MEASUREMENT; COPPER THROUGH-SI VIAS; MICROELECTRONICS; | |
| DOI : 10.1107/S2052252515015031 | |
| 学科分类：数学（综合） | |
| 来源: International Union of Crystallography | |
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