Desenvolvimento e avaliação de uma fonte DC de alta tensão para utilização em sistema de deposição de filmes finos por pulverização catódica

Materia

Rangel, Elidiane Cipriano¹  Buso, Rafael Rocha²  Abdanur, Rubens Miguel Favarato²  Gelamo, Rogério Valentim²  Machuno, Luís Gustavo Baptista²  Lima, Anderson Barbosa² 

[1] Laboratório de Plasmas Tecnológicos, Sorocaba, Brasil;UFTM, Uberaba, Brazil

关键词: fonte DC de alta tensão;    filmes finos;    sputtering;    nanotecnologia;    pulverização catódica;    plasmas frios.;   

DOI  :  10.1590/S1517-707620160002.0046

学科分类：工程和技术（综合）

来源: Universidade Federal do Rio de Janeiro * Coordenacao dos Programas de Pos-Graduacao de Engenharia

【 摘 要 】

O trabalho em questão está relacionado ao projeto e construção de uma fonte de alta tensão em corrente contínua utilizando materiais e dispositivos adquiridos no comércio local visando sua aplicação no processo de pulverização catódica. Essa técnica permite a deposição de filmes finos de metais, óxidos e nitretos sobre substratos sólidos. Como teste de funcionamento e aplicação da fonte DC, com a mesma instalada em canhão de pulverização em alto vácuo, filmes finos de diferentes espessuras de cobre, aço inoxidável 304 e tungstênio foram depositados e estudados. Análise de espessura, morfologia, e resistência elétrica e resistividade foram conduzidas. Filmes com resistividade elétrica dependente das espessuras foram obtidos. A fonte DC se mostrou confiável em operação e permite a deposição de uma infinidade de materiais nas mais diferentes espessuras sobre vários tipos de substratos.

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