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Open Physics
Plasma treatment studies of MIS devices

Basa Deepak¹
[1] Department of Physics, Utkal University, Bhubaneswar, 751004, India;
关键词: silicon nitride; plasma nitridation; plasma oxidation; interface state density; elastic backscattering;
DOI : 10.2478/s11534-009-0095-8
来源: DOAJ


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