Taxa de crescimento de filmes de diamante CVD em superfícies de molibdênio

Rem: Revista Escola de Minas

Oswaldo Kazushi Fujiy²  Vladimir Jesus Trava-airoldi¹  Evaldo José Corat¹  Marcelo Juni Ferreira¹  Amaurí Amorim¹  João Roberto Moro¹ 

[1] ,PUC de Campinas

关键词: Diamante CVD;    substrato de molibdênio;    taxa de crescimento;    Diamond CVD;    substratum of molybdenum;    growth rate;   

DOI  :  10.1590/S0370-44672007000200004

来源: SciELO

【 摘 要 】

O preparo dos substratos, para o crescimento de filmes de diamante CVD, é de fundamental importância por diversos fatores. Um novo método de preparação dos substratos de molibdênio, o jateamento por óxido de alumínio, é apresentado e comparado com os métodos tradicionais de preparo. As amostras de diamante CVD obtidas foram analisadas por espectroscopia de espalhamento RAMAN e por microscopia eletrônica de varredura (MEV). Obtiveram-se filmes de diamante CVD de boa qualidade e uniformidade e o novo processo proposto de tratamento do substrato de molibdênio permitiu maior taxa de crescimento que os métodos tradicionais.

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