Otimização de parâmetros estruturais, dielétricos e ferroelétricos de filmes finos de PZT

Cerâmica

E. B. Araújo¹  J. A. Eiras¹ 

[1] ,Universidade Federal de São Carlos Departamento de Física Grupo de Cerâmicas FerroelétricasS. Carlos SP

关键词: filmes finos;    PZT;    ferroelétrico;    thin films;    PZT;    ferroelectric;   

DOI  :  10.1590/S0366-69132001000100003

来源: SciELO

【 摘 要 】

Este trabalho faz uma síntese de resultados obtidos para filmes finos de PZT processados por diferentes vias com objetivo de otimizar parâmetros estruturais, dielétricos e ferroelétricos. Filmes foram preparados em fornos convencionais e pelo método de tratamento térmico rápido (TTR). Os resultados foram comparados e mostraram que os filmes cristalizados usando TTR apresentaram uma melhor cristalização, comparado com os filmes cristalizados em forno convencional. Em conseqüência, melhores parâmetros dielétricos e ferroelétricos também foram obtidos, chegando a duplicar o valor da polarização remanescente (Pr) e aumentar significativamente a constante dielétrica (épsilon) dos filmes.

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