| Optica Applicata | |
| Application of interference methods for determination of curvature radius in metal–oxide–semiconductor (MOS) structures | |
| Witold RZODKIEWICZ1 Lech BOROWICZ1 | |
| 关键词: Si–SiO2 system; interferometry; radius of curvature; stress; | |
| DOI : | |
| 学科分类：光谱学 | |
| 来源: Politechnika Wroclawska * Oficyna Wydawnicza / Wroclaw University of Technology | |
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