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Optica Applicata
High resolution photoemission yield study of the GaAs(100) surface cleaned by atomic hydrogen
Adam GIRYCKI1  Jacek SZUBER1  Pawel TOMKIEWICZ1  Piotr KOSCIELNIAK1 
关键词: GaAs;    atomic hydrogen cleaning;    photoemission yield spectroscopy (PYS);    surface states;    interface Fermi level pinning;    work function;    ionization energy;   
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学科分类：光谱学
来源: Politechnika Wroclawska * Oficyna Wydawnicza / Wroclaw University of Technology
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