• 已选条件：
  • × 188-D, Chile^2
  • × Plasma focus devices
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1 Ion beam measurement using Rogowski coils in a hundred of joules dense plasma focus device. [会议论文]

作者:Jain, J.^1,2,3;Moreno, J.^2,3;Pavez, C.^2,3;等

关键词:Beam measurements;Dense plasma focus;...

会议举办机构:Universidad de Talca, Chile^1

会议时间:

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