Superfícies fotocatalíticas de titânia em substratos cerâmicos. Parte II: substratos, processos de deposição e tratamento térmico

Cerâmica

J. Feltrin²  M. N. Sartor²  A. De Noni Jr¹  A. M. Bernardin¹  D. Hotza²  J. A. Labrincha¹ 

[1] ,Universidade Federal de Santa Catarina Programa de Pós-Graduação em Ciência e Engenharia dos Materiais Florianópolis SC

关键词: dióxido de titânio;    superfícies cerâmicas;    estabilidade de fase;    titanium dioxide;    ceramic surfaces;    phase stability;   

DOI  :  10.1590/S0366-69132014000100002

来源: SciELO

【 摘 要 】

Este trabalho corresponde à segunda parte da revisão das superfícies fotocatalíticas de titânia em substratos cerâmicos. Nesta parte, são descritos os principais fatores que influenciam na obtenção da fase anatase como: substrato, processos de deposição e tratamento térmico. Nos substratos que apresentam superfícies ásperas há uma maior eficiência fotocatalítica devido a sua maior área de contato. Os processos de deposição mais comumente utilizados em superfícies cerâmicas são: magnetron sputtering, dip coating, spin coating, serigrafia plana, pulverização, incavografia e impressão digital. Com relação ao tratamento térmico do dióxido de titânio, em todas as temperaturas e pressões a fase rutilo é a mais estável. A fase anatase é metaestável atingindo a estabilidade apenas em temperaturas baixas. A transformação de fase anatase para rutilo é gradual não apresentando uma temperatura definida.

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