Caracterização estrutural por difração de raios X de alta resolução de SiAlONs sinterizados com diferentes aditivos

Cerâmica

C. Santos²  P. A. Suzuki²  K. Strecker²  S. Kycia¹  C. R. M. Silva¹ 

[1] ,FAENQUIL DEMAR Lorena SP ,Brasil

关键词: SiAlON;    óxido misto;    difração de raios X de alta resolução;    luz síncrotron;    refinamento de estrutura;    método de Rietveld;    SiAlON;    mixed oxide;    high-resolution X-ray diffraction;    synchrotron;    structure refinement;    Rietveld method;   

DOI  :  10.1590/S0366-69132005000400002

来源: SciELO

【 摘 要 】

A técnica de difração de raios X de alta resolução foi utilizada para a caracterização estrutural da solução sólida, formada a partir de nitreto de silício (Si3N4), denominada alfa-SiAlON. Cerâmicas de alfa-SiAlON foram produzidas utilizando aditivos à base de AlN-Y2O3 ou AlN-CRE2O3. O óxido misto, CRE2O3, é uma solução sólida formada por Y2O3 e óxidos de terras raras. Os resultados mostraram a formação de solução sólida nos materiais sinterizados e não foi detectada segregação de óxidos utilizados como aditivos de sinterização. A similaridade das propriedades estruturais, morfológicas e mecânicas entre SiAlONs produzidos com aditivos contendo Y2O3 ou CRE2O3 indica a possibilidade de substituição do Y2O3 por CRE2O3 na produção de alfa-SiAlONs por um custo mais baixo.

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