Amorphous palladium-silicon alloys for the oxidation of formic acid and formaldehyde. A voltammetric investigation

Journal of the Brazilian Chemical Society

A.n. Correia²  L.h. Mascaro¹  S.a.s. Machado²  L.a. Avaca² 

[1] ,Universidade de São Paulo Instituto de Química de São Carlos São Carlos SP ,Brazil

关键词: formic acid;    formaldehyde;    palladium;    amorphous metallic alloys;    electrocatalytic oxidation;   

DOI  :  10.1590/S0103-50531999000600010

来源: SciELO

【 摘 要 】

A oxidação eletrocatalítica de ácido fórmico e formaldeído foi estudada por voltametria cíclica sobre eletrodos de Pd e da liga amorfa de Pd(Si), com os resultados obtidos sendo comparados com aqueles similares disponíveis na literatura. A oxidação do HCOOH ocorre sobre Pd por meio de desidrogenação catalítica direta via (:C(OH)2)ads, enquanto que sobre Pd(Si) não existem evidências da formação deste intermediário. Este fenômeno é uma conseqüência da presença de sítios inertes de Si na superfície, que diminui a probabilidade da ocorrência de sítios ativos adjacentes disponíveis para esta adsorção. Em altas concentrações de HCOOH, este intermediário sofre desidratação sobre a superfície de Pd e um pico de oxidação associado ao COads pode ser observado. Para o HCHO, o mecanismo de oxidação sobre os dois eletrodos é similar àqueles já discutidos na literatura para a Pt. Entretanto, os óxidos formados sobre a liga amorfa Pd(Si) são mais reativos que aqueles sobre Pd, afetando, assim, a cinética total do processo para ambas as moléculas orgânicas, o que é evidenciado pelo aumento nas correntes anódicas observado nos voltamogramas.

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