Obtenção de austenita expandida (fase S): Nitretação por plasma em baixa temperatura x SHTPN - Parte 1

Materia

Pandolfo, Vinícius¹  Reis, Ricardo Fernando dos² 

[1] UTFPR, Brasil;UTFPR, Curitiba, Brasil

关键词: Nitretação por plasma;    SHTPN;    fase S;    aços inoxidáveis;    ISO 5832-1.;   

DOI  :  10.1590/S1517-707620150001.0006

学科分类：工程和技术（综合）

来源: Universidade Federal do Rio de Janeiro * Coordenacao dos Programas de Pos-Graduacao de Engenharia

【 摘 要 】

Corpos de prova de aço inoxidável ISO 5832-1 foram tratados por dois diferentes processos, nitretação por plasma em baixa temperatura e SHTPN, com objetivo de obter camada superficial rica em nitrogênio (fase S ou γN) e livre de precipitados. O tempo de nitretação para ambos os processos foi o mesmo (3 h), de modo a possibilitar um comparativo dos resultados obtidos. Utilizaram-se as seguintes técnicas de análise: microscopia eletrônica de varredura (MEV), microscopia ótica (MO), microdureza, difração de raios-X (DRX) e espectroscopia por dispersão de comprimento de onda. Os resultados indicaram que a nitretação em baixa temperatura possibilita a formação de camada de fase S com concentrações da ordem de 0,90 % N (peso) com espessuras de pouco mais de 2 µm, enquanto o SHTPN gera camadas com 0,45 % N (peso) e espessuras de até 200 µm.

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